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Titel |
TI |
[DE] Prozesskammer mit modulierter Plasmaversorgung |
| 71/73 |
Anmelder/Inhaber |
PA |
Forschungsverbund Berlin e.V., 12489 Berlin, DE
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| 72 |
Erfinder |
IN |
Gesche, Roland, Dr., 63500 Seligenstadt, DE
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| 22/96 |
Anmeldedatum |
AD |
06.04.2009 |
| 21 |
Anmeldenummer |
AN |
102009016701 |
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Anmeldeland |
AC |
DE |
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Veröffentlichungsdatum |
PUB |
14.10.2010 |
33
31
32 |
Priorität |
PRC
PRN
PRD |
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| 51 |
IPC-Hauptklasse |
ICM |
H05H 1/30
(2006.01)
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| 51 |
IPC-Nebenklasse |
ICS |
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IPC-Zusatzklasse |
ICA |
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IPC-Indexklasse |
ICI |
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Gemeinsame Patentklassifikation |
CPC |
H01J 37/32082
H01J 37/32137
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MCD-Hauptklasse |
MCM |
H05H 1/30
(2006.01)
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MCD-Nebenklasse |
MCS |
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MCD-Zusatzklasse |
MCA |
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| 57 |
Zusammenfassung |
AB |
[DE] Eine Plasmakammer mit einer an einer ersten Seite befestigten ersten Aufnahmevorrichtung für ein Substrat und mit einer Plasmaerzeugungseinheit, welche mit einer Hochfrequenzspannungsversorgung verbunden oder verbindbar ist. Die Hochfrequenzspannungsversorgung ist ausgebildet, eine modulierte hochfrequente Wechselspannung zu erzeugen. |
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Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate,
in Recherche ermittelt |
CT |
DE000010195251T5
DE000069527661T2
US000005936352A
US020020139658A1
US020090101283A1
WO002002075332A1
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Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate,
vom Anmelder genannt |
CT |
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Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate,
in Recherche ermittelt |
CTNP |
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| 56 |
Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate,
vom Anmelder genannt |
CTNP |
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Zitierende Dokumente |
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keine Treffer
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Sequenzprotokoll |
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Prüfstoff-IPC |
ICP |
H05H 1/30
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