54 |
Title |
TI |
[DE] Prozesskammer mit modulierter Plasmaversorgung |
71/73 |
Applicant/owner |
PA |
Forschungsverbund Berlin e.V., 12489 Berlin, DE
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72 |
Inventor |
IN |
Gesche, Roland, Dr., 63500 Seligenstadt, DE
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22/96 |
Application date |
AD |
Apr 6, 2009 |
21 |
Application number |
AN |
102009016701 |
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Country of application |
AC |
DE |
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Publication date |
PUB |
Oct 14, 2010 |
33 31 32 |
Priority data |
PRC PRN PRD |
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51 |
IPC main class |
ICM |
H05H 1/30
(2006.01)
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51 |
IPC secondary class |
ICS |
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IPC additional class |
ICA |
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IPC index class |
ICI |
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Cooperative patent classification |
CPC |
H01J 37/32082
H01J 37/32137
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MCD main class |
MCM |
H05H 1/30
(2006.01)
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MCD secondary class |
MCS |
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MCD additional class |
MCA |
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57 |
Abstract |
AB |
[DE] Eine Plasmakammer mit einer an einer ersten Seite befestigten ersten Aufnahmevorrichtung für ein Substrat und mit einer Plasmaerzeugungseinheit, welche mit einer Hochfrequenzspannungsversorgung verbunden oder verbindbar ist. Die Hochfrequenzspannungsversorgung ist ausgebildet, eine modulierte hochfrequente Wechselspannung zu erzeugen. |
56 |
Cited documents identified in the search |
CT |
DE000010195251T5 DE000069527661T2 US000005936352A US020020139658A1 US020090101283A1 WO002002075332A1
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56 |
Cited documents indicated by the applicant |
CT |
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56 |
Cited non-patent literature identified in the search |
CTNP |
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Cited non-patent literature indicated by the applicant |
CTNP |
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Citing documents |
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Determine documents
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Sequence listings |
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Search file IPC |
ICP |
H05H 1/30
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