54 |
Title |
TI |
[DE] Vorrichtung zur zweidimensionalen Abbildung von Szenen durch Mikrowellen-Abtastung und Verwendung der Vorrichtung |
71/73 |
Applicant/owner |
PA |
Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V., 51147 Köln, DE
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72 |
Inventor |
IN |
Berthel, Dominik, 97357 Prichsenstadt, DE
;
Dill, Stephan, 80339 München, DE
;
Jirousek, Matthias, 82319 Starnberg, DE
;
Peichl, Markus, Dr., 82131 Gauting, DE
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22/96 |
Application date |
AD |
Mar 6, 2008 |
21 |
Application number |
AN |
102008013066 |
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Country of application |
AC |
DE |
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Publication date |
PUB |
Oct 1, 2009 |
33 31 32 |
Priority data |
PRC PRN PRD |
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51 |
IPC main class |
ICM |
H01Q 3/12
(2006.01)
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51 |
IPC secondary class |
ICS |
G01S 13/89
(2006.01)
H01Q 19/19
(2006.01)
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IPC additional class |
ICA |
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IPC index class |
ICI |
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Cooperative patent classification |
CPC |
G01S 13/426
G01S 13/89
H01Q 3/10
H01Q 3/16
H01Q 3/20
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MCD main class |
MCM |
H01Q 3/12
(2006.01)
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MCD secondary class |
MCS |
G01S 13/89
(2006.01)
H01Q 19/19
(2006.01)
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MCD additional class |
MCA |
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57 |
Abstract |
AB |
[DE] Zur zweidimensionalen Szenenabbildung durch kontinuierliche, passive oder aktive Mikrowellen-Abtastung dient eine vollmechanische Richtantennenanordnung mit Hauptreflektor (1), Primärstrahleranordnung (3) und einem relativ zum Hauptreflektor klein bemessenen Subreflektor (2), der bezüglich der optischen Achse (7) der Richtantennenanordnung geneigt ist. Erste Antriebsmittel (8) sorgen für eine Rotation des Subreflektors um die optische Achse und zweite Antriebsmittel (17, 18) für eine Bewegung der gesamten Richtantennenanordnung in einer Richtung zumindest angenähert senkrecht zur optischen Achse. Die Bewegungsgeschwindigkeit des Subreflektors ist zu derjenigen der gesamten Richtantennenanordrm, Primärstrahler, Abstand Primärstrahler-Subreflektor und Abstand Subreflektor-Hauptreflektor sind als Fokussierungsparameter so aufeinander abgestieine optimale Fokussierung und Gesichtsfeldgröße einstellt. Die Fokussierungsparameter und die Bewegungsgeschwindigkeiten der beiden Antriebsmittel sind so eingestellt, dass sich eine lückenlose kontinuierliche Szenenabtastung durch den sich im Szenenabstand bewegenden Fokussierungsfleck (12) ergibt. Anwendung bei Fernerkundung, insbesondere Erdbeobachtung und Sicherheitstechnik. |
56 |
Cited documents identified in the search |
CT |
EP000000002982A1 EP000000514886A1 US000006943742B2 WO002005017559A2 WO002005085903A1 WO002007028472A1
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56 |
Cited documents indicated by the applicant |
CT |
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56 |
Cited non-patent literature identified in the search |
CTNP |
MARTIN, C.A. et al.: High-resolution passive millimeter-wave security screening using few amplifiers. In: Proc. SPIE, Vol. 6548, 654806 (2007), S. 1-10 p 0
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56 |
Cited non-patent literature indicated by the applicant |
CTNP |
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Citing documents |
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Determine documents
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Sequence listings |
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Search file IPC |
ICP |
G01S 13/89
G01V 8/00
H01Q 19/19
H01Q 3/10
H01Q 3/12
H01Q 3/16
H01Q 3/20
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