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Titel |
TI |
[DE] Vorrichtung und Verfahren zur Erzeugung von Röntgenstrahlung mittels polarisierbarer Kristalle
[EN] Device for producing X-rays by polarizable pyroelectrical crystals, has particle source connected to vacuum chamber for guiding gaseous adsorbate, where electric field causing deceleration to target and production of X-rays is changed |
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Anmelder/Inhaber |
PA |
Technische Universität Dresden, 01069 Dresden, DE
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Erfinder |
IN |
Meyer, Dirk C., 01326 Dresden, DE
;
Stöcker, Hartmut, 02763 Oberseifersdorf, DE
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| 22/96 |
Anmeldedatum |
AD |
02.11.2007 |
| 21 |
Anmeldenummer |
AN |
102007053076 |
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Anmeldeland |
AC |
DE |
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Veröffentlichungsdatum |
PUB |
14.05.2009 |
33
31
32 |
Priorität |
PRC
PRN
PRD |
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IPC-Hauptklasse |
ICM |
H05G 2/00
(2006.01)
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| 51 |
IPC-Nebenklasse |
ICS |
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IPC-Zusatzklasse |
ICA |
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IPC-Indexklasse |
ICI |
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Gemeinsame Patentklassifikation |
CPC |
H05G 2/00
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MCD-Hauptklasse |
MCM |
H05G 2/00
(2006.01)
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MCD-Nebenklasse |
MCS |
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MCD-Zusatzklasse |
MCA |
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Zusammenfassung |
AB |
[DE] Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung (30) zur Erzeugung von Röntgenstrahlen mittels polarisierbarer Kristalle (1), wobei sich in einem Gehäuse (8) mit einer Vakuumkammer (23) der Kristall (1) auf einer Einrichtung (9) zur Einstellung einer Polarisationstemperatur (TP) zur Ausbildung eines elektrischen Polarisationsfeldes bestimmter Feldstärke befindet und mit einem durch einen außerhalb des Kristalls (1) wirksamen Anteil des Polarisationsfeldes sich in einem vorhandenen Restgas (29) ausbildenden Oberflächenplasma (18) im Kontakt steht und sich im Gehäuse (8) zumindest ein vom Oberflächenplasma (18) bombardierbares Target (15) zur Erzeugung einer während eines Aktivierungsvorganges einer vorgegebenen Oberfläche (28) des Kristalls (1) oder des Restgases (29) entstehenden Röntgenstrahlung (17, 171, 172, 173) und ein Fenster (11) zur registrierbaren Durchstrahlung der vorhandenen Röntgenstrahlung (17, 171, 172, 173) befindet, wobei das Gehäuse (8) mit einer Unterdruckpumpe (13) in Verbindung steht. Die Aufgabe besteht darin, die Röntgenemissionsrate zu erhöhen. Die Lösung besteht darin, dass mindestens eine Teilchenquelle (26) mit mindestens einem gasförmigen Adsorbat (34) vorgesehen ist, die zur Einführung des Adsorbats (34) an die Vakuumkammer (23) angeschlossen ist und die über das vorhandene Oberflächenplasma (18) hinaus eine integrale stationäre Adsorbatschicht (19) gesteuert auf der Oberfläche (28) des Kristalls (1) auf- und abbaut, wodurch eine gesteuerte ...
[EN] The device (30) has a particle source (26) connected to a vacuum chamber for guiding a gaseous adsorbate (34). Adsorption and desorption of the adsorbate bind permanent concentration in insulating charging particles in residual gas (29) or causes an attachment of an adsorbate layer (19). The adsorbate layer is developed and removed on/from a surface of polarized crystals (1) by a surface plasma (18) in a controlled manner. A deflective electric field causing deceleration to a target and production of X-rays (17) is changed. An additional X-ray is produced during activation process. An independent claim is also included for a method of producing X-rays by polarized crystals. |
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Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate,
in Recherche ermittelt |
CT |
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Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate,
vom Anmelder genannt |
CT |
US000003840748A
US000005122699A
WO002003098265A1
WO002006060030A2
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Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate,
in Recherche ermittelt |
CTNP |
BROWNRIDGE, James D. ; SHAFROTH, Stephen M.: X-ray fluoresced high-Z (up to Z=82) K x rays produced by LiNbO3 and LiTaO3 pyroelectric crystal electron accelerators. In: Applied Physics Letters, Vol. 85, 2004, No. 7, S. 1298-1300. ? ISSN 0003-6951 n;
FENG, Xinjian ; LEI, Jiang: Design and creation of superwetting/antiwetting surfaces. In: Advanced Materials, Vol. 18, 2006, S. 3063-3078. - ISSN 0935-9648 n
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| 56 |
Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate,
vom Anmelder genannt |
CTNP |
Adv. Mater., 18, 2006, S. 3063 1;
Appl. Phys. Lett., 85, 2004, S. 1298 1
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Zitierende Dokumente |
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Dokumente ermitteln
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Sequenzprotokoll |
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Prüfstoff-IPC |
ICP |
H05G 2/00
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