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Bibliographic data Document DE102006037510B3 (Pages: 14)
INID	Criterion	Field	Contents
54	Title	TI	[DE] Verfahren zum Herstellen einer Grabenstruktur, die Verwendung dieses Verfahrens zur Herstellung einer Halbleiteranordnung und Halbleiteranordnung mit einer Grabenstruktur
71/73	Applicant/owner	PA	Infineon Technologies Austria AG, Villach, AT
72	Inventor	IN	Hirler, Franz, Dr., 84424 Isen, DE ; Mauder, Anton, Dr., 83059 Kolbermoor, DE ; Rueb, Michael, Dr., Faak am See, AT ; Schulze, Hans-Joachim, Dr., 85521 Ottobrunn, DE ; Strack, Helmut, Dr., 80804 M�nchen, DE
22/96	Application date	AD	Aug 10, 2006
21	Application number	AN	102006037510
	Country of application	AC	DE
	Publication date	PUB	Apr 10, 2008
33 31 32	Priority data	PRC PRN PRD
51	IPC main class	ICM	H01L 21/336 (2006.01)
51	IPC secondary class	ICS	H01L 21/762 (2006.01) H01L 29/772 (2006.01)
	IPC additional class	ICA
	IPC index class	ICI
	Cooperative patent classification	CPC	H01L 21/3247 H01L 21/76224 H01L 29/0653 H01L 29/407 H01L 29/66621 H01L 29/7803 H01L 29/7804
	MCD main class	MCM	H01L 21/336 (2006.01)
	MCD secondary class	MCS	H01L 21/762 (2006.01) H01L 29/772 (2006.01)
	MCD additional class	MCA
57	Abstract	AB	[DE] Bei einem Verfahren zur Herstellung einer Grabenstruktur wird ein erster Grabenabschnitt von einer Oberfl�che eines Halbleiterk�rpers ausgehend in den Halbleiterk�rper hinein erzeugt. Eine Halbleiterschicht wird �ber der Oberfl�che und �ber den ersten Grabenabschnitt erzeugt. Ein weiterer Grabenabschnitt wird in der Halbleiterschicht derart erzeugt, dass der erste Grabenabschnitt und der weitere Grabenabschnitt eine durchg�ngige Grabenstruktur bilden. Eine Halbleiteranordnung weist eine Grabenstruktur auf, die aus mehreren vertikalen Grabenabschnitten und mindestens einem Verbindungselement zusammengesetzt ist.
56	Cited documents identified in the search	CT	DE102005039331A1 US000007052941B2
56	Cited documents indicated by the applicant	CT
56	Cited non-patent literature identified in the search	CTNP
56	Cited non-patent literature indicated by the applicant	CTNP
	Citing documents		Determine documents
	Sequence listings
	Search file IPC	ICP	H01L 21/336 H01L 21/762 T