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Bibliographic data Document DE102005002960A1 (Pages: 14)
INID	Criterion	Field	Contents
54	Title	TI	[DE] Kompositzusammensetzung f�r mikrogemusterte Schichten mit hohem Relaxationsverm�gen, hoher chemischer Best�ndigkeit und mechanischer Stabilit�t
71/73	Applicant/owner	PA	Canon K.K., Tokio/Tokyo, JP ; Leibniz-Institut f�r Neue Materialien gemeinn�tzige GmbH, 66123 Saarbr�cken, DE
72	Inventor	IN	Becker-Willinger, Carsten, 66130 Saarbr�cken, DE ; Hino, Etsuko, Tokio/Tokyo, JP ; Kalmes, Pamela, 66287 Quierschied, DE ; Mitsutoshi, Noguchi, Tokio/Tokyo, JP ; Ohkuma, Norio, Tokio/Tokyo, JP ; Schmidt, Helmut, 66130 Saarbr�cken, DE ; Yoshikazu, Saito, Tokio/Tokyo, JP
22/96	Application date	AD	Jan 21, 2005
21	Application number	AN	102005002960
	Country of application	AC	DE
	Publication date	PUB	Aug 3, 2006
33 31 32	Priority data	PRC PRN PRD
51	IPC main class	ICM	C09D 183/04 (2006.01)
51	IPC secondary class	ICS	B29C 35/08 (2006.01)
	IPC additional class	ICA
	IPC index class	ICI
	Cooperative patent classification	CPC	C08G 77/14 C08L 83/06 G03F 7/0757 Y10T 428/24802 Y10T 428/269 Y10T 428/31511 Y10T 428/31525 Y10T 428/31529 Y10T 428/31663
	MCD main class	MCM	C09D 183/04 (2006.01)
	MCD secondary class	MCS	B29C 35/08 (2006.01)
	MCD additional class	MCA
57	Abstract	AB	[DE] Eine polymerisierbare Kompositzusammensetzung, umfassend a) ein Hydrolysat und/oder Kondensat von mindestens einem hydrolysierbaren Alkylsilan mit mindestens einer Alkylgruppe, mindestens einem hydrolysierbaren Arylsilan mit mindestens einer Arylgruppe oder mindestens einem Alkylarylsilan mit mindestens einer Alkylarylgruppe und mit mindestens einem hydrolysierbaren Silan mit einer Epoxygruppe, b) mindestens eine organische Verbindung mit mindestens zwei Epoxygruppen und c) einen kationischen Initiator, eignet sich nach H�rtung zur Bereitstellung von Substraten mit einer mit Muster versehenen Beschichtung oder f�r mit Muster versehenen Formk�rpern. DOLLAR A Die erhaltenen, mit Muster versehenen Beschichtungen und Formk�rper zeigen ein hohes Relaxationsverm�gen, eine hohe chemische Best�ndigkeit und mechanische Stabilit�t. Mikromuster k�nnen mit hoher Formstabilit�t erhalten werden.
56	Cited documents identified in the search	CT	EP000000466025A2 US000006391999B1
56	Cited documents indicated by the applicant	CT
56	Cited non-patent literature identified in the search	CTNP
56	Cited non-patent literature indicated by the applicant	CTNP
	Citing documents		Determine documents
	Sequence listings
	Search file IPC	ICP	C09D 183/04 G03F 7/075