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Titel |
TI |
[DE] Kompositzusammensetzung für mikrogemusterte Schichten mit hohem Relaxationsvermögen, hoher chemischer Beständigkeit und mechanischer Stabilität |
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Anmelder/Inhaber |
PA |
Canon K.K., Tokio/Tokyo, JP
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Leibniz-Institut für Neue Materialien gemeinnützige GmbH, 66123 Saarbrücken, DE
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Erfinder |
IN |
Becker-Willinger, Carsten, 66130 Saarbrücken, DE
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Hino, Etsuko, Tokio/Tokyo, JP
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Kalmes, Pamela, 66287 Quierschied, DE
;
Mitsutoshi, Noguchi, Tokio/Tokyo, JP
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Ohkuma, Norio, Tokio/Tokyo, JP
;
Schmidt, Helmut, 66130 Saarbrücken, DE
;
Yoshikazu, Saito, Tokio/Tokyo, JP
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| 22/96 |
Anmeldedatum |
AD |
21.01.2005 |
| 21 |
Anmeldenummer |
AN |
102005002960 |
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Anmeldeland |
AC |
DE |
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Veröffentlichungsdatum |
PUB |
03.08.2006 |
33
31
32 |
Priorität |
PRC
PRN
PRD |
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IPC-Hauptklasse |
ICM |
C09D 183/04
(2006.01)
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| 51 |
IPC-Nebenklasse |
ICS |
B29C 35/08
(2006.01)
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IPC-Zusatzklasse |
ICA |
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IPC-Indexklasse |
ICI |
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Gemeinsame Patentklassifikation |
CPC |
C08G 77/14
C08L 83/06
G03F 7/0757
Y10T 428/24802
Y10T 428/269
Y10T 428/31511
Y10T 428/31525
Y10T 428/31529
Y10T 428/31663
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MCD-Hauptklasse |
MCM |
C09D 183/04
(2006.01)
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MCD-Nebenklasse |
MCS |
B29C 35/08
(2006.01)
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MCD-Zusatzklasse |
MCA |
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Zusammenfassung |
AB |
[DE] Eine polymerisierbare Kompositzusammensetzung, umfassend a) ein Hydrolysat und/oder Kondensat von mindestens einem hydrolysierbaren Alkylsilan mit mindestens einer Alkylgruppe, mindestens einem hydrolysierbaren Arylsilan mit mindestens einer Arylgruppe oder mindestens einem Alkylarylsilan mit mindestens einer Alkylarylgruppe und mit mindestens einem hydrolysierbaren Silan mit einer Epoxygruppe, b) mindestens eine organische Verbindung mit mindestens zwei Epoxygruppen und c) einen kationischen Initiator, eignet sich nach Härtung zur Bereitstellung von Substraten mit einer mit Muster versehenen Beschichtung oder für mit Muster versehenen Formkörpern. DOLLAR A Die erhaltenen, mit Muster versehenen Beschichtungen und Formkörper zeigen ein hohes Relaxationsvermögen, eine hohe chemische Beständigkeit und mechanische Stabilität. Mikromuster können mit hoher Formstabilität erhalten werden. |
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Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate,
in Recherche ermittelt |
CT |
EP000000466025A2
US000006391999B1
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| 56 |
Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate,
vom Anmelder genannt |
CT |
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| 56 |
Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate,
in Recherche ermittelt |
CTNP |
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| 56 |
Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate,
vom Anmelder genannt |
CTNP |
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Zitierende Dokumente |
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Dokumente ermitteln
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Sequenzprotokoll |
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Prüfstoff-IPC |
ICP |
C09D 183/04
G03F 7/075
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