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Titel |
TI |
[DE] Verfahren zum Beseitigen von Ablationsrückständen beim Laserstrukturierungsprozeß durch Ablation
[EN] Ablation product removal method for laser structuring process |
| 71/73 |
Anmelder/Inhaber |
PA |
Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung eV, 80636 München, DE
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Erfinder |
IN |
Mertig, Michael, Dr.rer.nat., 01189 Dresden, DE
;
Panzner, Michael, Dr.rer.nat., 01324 Dresden, DE
;
Wiedemann, Günther, Dr.-Ing., 01237 Dresden, DE
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| 22/96 |
Anmeldedatum |
AD |
25.11.1997 |
| 21 |
Anmeldenummer |
AN |
19752203 |
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Anmeldeland |
AC |
DE |
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Veröffentlichungsdatum |
PUB |
02.06.1999 |
33
31
32 |
Priorität |
PRC
PRN
PRD |
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| 51 |
IPC-Hauptklasse |
ICM |
B23K 26/00
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| 51 |
IPC-Nebenklasse |
ICS |
A61F 9/00
B08B 7/00
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IPC-Zusatzklasse |
ICA |
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IPC-Indexklasse |
ICI |
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Gemeinsame Patentklassifikation |
CPC |
B08B 7/0042
B23K 26/066
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MCD-Hauptklasse |
MCM |
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MCD-Nebenklasse |
MCS |
B08B 7/00
(2006.01)
B23K 26/066
(2014.01)
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MCD-Zusatzklasse |
MCA |
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Zusammenfassung |
AB |
[DE] Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Beseitigen von Ablationsrückständen beim Laserstrukturierungsprozeß durch Ablation.$A Sie bezieht sich auf das Gebiet der Laseroberflächenbehandlung und -bearbeitung und ist insbesondere bei der Laserstrukturierung durch Ablation mit dem Verfahren der Maskenprojektion einsetzbar.$A Erfindungsgemäß erfolgt bei diesem Verfahren die Reinigung der Oberfläche des strukturierten Werkstücks nach dem Laserstrukturierungsprozeß mit der gleichen Laserstrahlung, mit der auch der Laserstrukturierungsprozeß durchgeführt wurde.
[EN] The method has the surface (8) of a structured workpiece (9) cleaned for removal of the ablation products after a laser structuring process, by using the same laser radiation and the same laser parameters as are used for the laser structuring process itself. |
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Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate,
in Recherche ermittelt |
CT |
US000005151135A
US000005257706A
US000005531857A
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Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate,
vom Anmelder genannt |
CT |
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| 56 |
Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate,
in Recherche ermittelt |
CTNP |
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| 56 |
Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate,
vom Anmelder genannt |
CTNP |
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Zitierende Dokumente |
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DE102006005127A1
DE102006005127B4
RU000002682423C1
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Sequenzprotokoll |
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Prüfstoff-IPC |
ICP |
A61F 9/013 LO
B23K 26/00 E
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