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Titel |
TI |
[DE] Verfahren zur Schichtherstellung bzw. zur Kristallzüchtung [EN] Controlled modification of layer production or crystal growth |
71/73 |
Anmelder/Inhaber |
PA |
Meyer, Dirk, Dipl.-Phys., 01326 Dresden, DE
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72 |
Erfinder |
IN |
Meyer, Dirk, Dipl.-Phys., 01326 Dresden, DE
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22/96 |
Anmeldedatum |
AD |
24.06.1997 |
21 |
Anmeldenummer |
AN |
19726766 |
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Anmeldeland |
AC |
DE |
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Veröffentlichungsdatum |
PUB |
26.03.1998 |
33 31 32 |
Priorität |
PRC PRN PRD |
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51 |
IPC-Hauptklasse |
ICM |
H01L 21/205
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51 |
IPC-Nebenklasse |
ICS |
C30B 25/18
H01L 21/263
H01L 21/322
H01L 33/00
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IPC-Zusatzklasse |
ICA |
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IPC-Indexklasse |
ICI |
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Gemeinsame Patentklassifikation |
CPC |
C30B 25/105
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MCD-Hauptklasse |
MCM |
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MCD-Nebenklasse |
MCS |
C30B 25/10
(2006.01)
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MCD-Zusatzklasse |
MCA |
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57 |
Zusammenfassung |
AB |
[DE] Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zur Schichtherstellung bzw. zur Kristallzüchtung (einschließlich Rekristallisation, Ausheilung und andere auf die Erzielung einer bestimmten kristallographischen Struktur in Festkörpern ausgerichtete Reaktionen) für die Erlangung einer bestmöglichen kristallographischen Struktur der Produkte. Die Erfindung ist dadurch gekennzeichnet, daß bei der Schichtherstellung bzw. Kristallzüchtung auf der Grundlage bekannter Verfahren die Formierung der Schicht- bzw. Kristallstruktur durch eine Überlagerung stehender Röntgen-Wellenfelder, die in geeigneter Weise erzeugt und mit den in der Formierung befindlichen Schicht- bzw. Kristallbereichen in Wechselwirkung gebracht werden, beeinflußt wird. Dabei korrespondieren die örtlichen Energiedichteverteilungen dieser stehenden Röntgen-Wellenfelder mit den Parametern der gewünschten kristallographischen Struktur oder den Parametern von Schichtsystemen. [EN] In a method of layer production or crystal growth (including recrystallisation, healing and other processes for achieving a certain crystallographic structure) to obtain the best possible crystallographic structure, layer or crystal formation is modified by superimposed stationary x-ray wave fields which interact with the layer or crystal regions, the local energy density distributions of these fields corresponding to the parameters of the desired crystallographic structure or of the layer systems. |
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Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate, in Recherche ermittelt |
CT |
EP000000507611A1
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56 |
Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate, vom Anmelder genannt |
CT |
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56 |
Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate, in Recherche ermittelt |
CTNP |
JP 05291152 A, In: Pat. Abstr. of Jp. n; JP 63155612 A, In: Pat. Abstr. of Jp. n
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56 |
Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate, vom Anmelder genannt |
CTNP |
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Zitierende Dokumente |
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Dokumente ermitteln
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Sequenzprotokoll |
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Prüfstoff-IPC |
ICP |
C30B 25/02 B
H01L 21/205
H01L 21/263
H01L 21/322
H01L 33/00 F1
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