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Bibliografische Daten

Dokument DE000010111360A1 (Seiten: 14)

Bibliografische Daten Dokument DE000010111360A1 (Seiten: 14)
INID Kriterium Feld Inhalt
54 Titel TI [DE] Dekorationsmittel und Verfahren zu dessen Herstellung
[EN] Decoration arrangement used as a piece of jewelry contains a thin layer having non-transparent regions arranged to produce a pattern, and transparent regions
71/73 Anmelder/Inhaber PA FRAUNHOFER GES FORSCHUNG, DE
72 Erfinder IN MATTHEE THORSTEN, DE ; NEUMANN FRANK, DE
22/96 Anmeldedatum AD 08.03.2001
21 Anmeldenummer AN 10111360
Anmeldeland AC DE
Veröffentlichungsdatum PUB 17.10.2002
33
31
32
Priorität PRC
PRN
PRD


51 IPC-Hauptklasse ICM B44C 3/02
51 IPC-Nebenklasse ICS B23K 26/00
B44B 1/06
B44C 1/24
IPC-Zusatzklasse ICA
IPC-Indexklasse ICI
Gemeinsame Patentklassifikation CPC A44C 27/00
B23K 26/066
B44B 7/002
B44F 1/06
B44F 1/08
MCD-Hauptklasse MCM
MCD-Nebenklasse MCS A44C 27/00 (2006.01)
B23K 26/066 (2014.01)
B44B 7/00 (2006.01)
B44F 1/06 (2006.01)
B44F 1/08 (2006.01)
MCD-Zusatzklasse MCA
57 Zusammenfassung AB [DE] Die Erfindung betrifft Projektionsmasken und andere Dekorationsmittel mit dekorativen Mustern, wobei auf einem Substrat mindestens eine dünne Schicht aufgebracht ist, und in dieser dünnen Schicht das gewünschte Muster durch transparente und nicht transparente Schichtbereiche ausgebildet ist, wobei in dem Schichtmaterial beispielsweise durch Lasereinwirkung eine Phasenumwandlung von einem nicht transparenten in einen transparenten Zustand induziert werden kann oder umgekehrt.
[EN] Decoration arrangement contains a thin layer (4) having a pattern applied on a substrate (1). The thin layer has non-transparent regions (2) arranged to produce a pattern, and transparent regions (3). The non-transparent and transparent regions are formed by the phase conversion of he layer material. An Independent claim is also included for a process for the production of a pattern on a decoration arrangement. Preferred Features: The thin layer is made from Ti, Nb, Cr, Al, Ce, Zr, V, Cu, Au, In, Mo, Ta, Si, Ge, Mg or their alloys, especially Ti, Nb or their alloys or a transparent conducting oxide, preferably Zn; AlO or In; SnO.
56 Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate,
in Recherche ermittelt
CT DD000000118251A2
DE000019511977C2
DE000019642001A1
EP000000391848B1
56 Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate,
vom Anmelder genannt
CT
56 Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate,
in Recherche ermittelt
CTNP
56 Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate,
vom Anmelder genannt
CTNP
Zitierende Dokumente Dokumente ermitteln
Sequenzprotokoll
Prüfstoff-IPC ICP B44B 1/06
B44C 1/22 C
B44C 3/02