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Titel |
TI |
[DE] Halbleiterbauelement mit erhöhter Durchbruchspannung sowie dazugehöriges Herstellungsverfahren
[EN] Semiconducting component with increased breakdown voltage has active structure and edge structure, compensation field strength in edge structure lower than that in active area |
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Anmelder/Inhaber |
PA |
Infineon Technologies AG, 81669 München, DE
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| 72 |
Erfinder |
IN |
Ahlers, Dirk, Dr., 80796 München, DE
;
Debov, Gerald, Dr., 80538 München, DE
;
Marion, Miguel Cuadron, 81543 München, DE
;
Rüb, Michael, Dr., Faak, AT
;
Stengl, Jens-Peer, 82284 Grafrath, DE
;
Weber, Hans, Dr., 83404 Ainring, DE
;
Willmeroth, Armin, 86163 Augsburg, DE
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| 22/96 |
Anmeldedatum |
AD |
08.12.2000 |
| 21 |
Anmeldenummer |
AN |
10061310 |
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Anmeldeland |
AC |
DE |
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Veröffentlichungsdatum |
PUB |
27.06.2002 |
33
31
32 |
Priorität |
PRC
PRN
PRD |
DE
10066053
20001208
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| 51 |
IPC-Hauptklasse |
ICM |
H01L 29/06
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| 51 |
IPC-Nebenklasse |
ICS |
H01L 29/739
H01L 29/78
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IPC-Zusatzklasse |
ICA |
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IPC-Indexklasse |
ICI |
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Gemeinsame Patentklassifikation |
CPC |
H10D 30/66
H10D 30/665
H10D 62/111
H10D 64/256
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MCD-Hauptklasse |
MCM |
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MCD-Nebenklasse |
MCS |
H01L 29/06
(2006.01)
H01L 29/78
(2006.01)
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MCD-Zusatzklasse |
MCA |
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Zusammenfassung |
AB |
[DE] Die Erfindung betrifft ein Halbleiterbauelement mit erhöhter Durchbruchspannung mit einer aktiven Struktur (AS) und einer Randstruktur (RS). Eine Vielzahl von ersten und zweiten Rand-Kompensationsgebieten (2 und 3) sind hierbei derart in der Randstruktur ausgebildet, dass die zweiten Rand-Kompensationsgebiete (3) vollständig von Ladungsträgern ausgeräumt werden und eine Kompensationsfeldstärke in der Randstruktur (RS) geringer ist als eine Kompensationsfeldstärke in einer aktiven Struktur (AS) des Halbleiterbauelements.
[EN] The device has an active structure and an edge structure with edge compensation areas and floating edge compensation areas with edge compensation zones. Certain areas are fully depleted of charge carriers before reaching breakdown voltage. The compensation field strength in the edge structure is lower than that in an active area. The device has an active structure (AS) with a blocking pn-junction in a semiconducting substrate, a first zone (6) of a first conductor type connected to a first electrode (S) and bounding on a zone of opposite type forming the junction blocking zone (7) also connected to the first electrode, a second zone (1) of first type connected to a second electrode (D) and compensation areas (3') nested between the first and second zones. An edge structure (RS) has a number of first edge compensation areas (2) of the first type and a number of floating edge compensation areas (3) of the second type with edge compensation zones (4) and nested with the first areas so that the second areas are fully depleted of charge carriers before reaching the breakdown voltage. The compensation field strength in the edge structure is lower than that in an active area. Independent claims are also included for the following: a method of manufacturing a semiconducting component. |
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Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate,
in Recherche ermittelt |
CT |
EP000001011146A1
US000004750028A
US000004754310A
US000005216275A
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| 56 |
Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate,
vom Anmelder genannt |
CT |
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| 56 |
Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate,
in Recherche ermittelt |
CTNP |
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| 56 |
Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate,
vom Anmelder genannt |
CTNP |
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Zitierende Dokumente |
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DE000010341793A1
DE000010341793B4
DE102007004616A1
DE102007004616B4
DE102009026837A1
DE102009026837B4
US000007446373B2
US000007863680B2
US000007973362B2
US000008106453B2
US000008421154B2
US000008659082B2
US000009368575B2
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Sequenzprotokoll |
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Prüfstoff-IPC |
ICP |
H01L 29/06 E
H01L 29/739
H01L 29/78
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