Bibliografische Daten

Dokument DE000010001135A1 (Seiten: 12)

Bibliografische Daten Dokument DE000010001135A1 (Seiten: 12)
INID Kriterium Feld Inhalt
54 Titel TI [DE] Verfahren zur Herstellung eines mikrostrukturierten Oberflächenreliefs durch Prägen thixotroper Schichten
71/73 Anmelder/Inhaber PA Institut für Neue Materialien gemeinnützige GmbH, 66123 Saarbrücken, DE
72 Erfinder IN Gier, Andreas, 66333 Völklingen, DE ; Kunze, Nora, 66787 Wadgassen, DE ; Mennig, Martin, 66287 Quierschied, DE ; Oliveira, Peter W., 66111 Saarbrücken, DE ; Schmidt, Helmut, 66130 Saarbrücken, DE ; Schäfer, Bruno, 66679 Losheim, DE ; Sepeur, Stefan, 66787 Wadgassen, DE
22/96 Anmeldedatum AD 13.01.2000
21 Anmeldenummer AN 10001135
Anmeldeland AC DE
Veröffentlichungsdatum PUB 19.07.2001
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32
Priorität PRC
PRN
PRD


51 IPC-Hauptklasse ICM B05D 5/00
51 IPC-Nebenklasse ICS B05D 3/12
B32B 31/28
C08J 7/18
C08L 101/04
C08L 83/04
IPC-Zusatzklasse ICA
IPC-Indexklasse ICI
Gemeinsame Patentklassifikation CPC B05D 1/42
B05D 3/12
MCD-Hauptklasse MCM B05D 5/06 (2006.01)
MCD-Nebenklasse MCS B05D 1/00 (2006.01)
B05D 1/42 (2006.01)
B05D 3/12 (2006.01)
B05D 7/24 (2006.01)
MCD-Zusatzklasse MCA
57 Zusammenfassung AB [DE] Ein Verfahren zur Herstellung eines mikrostrukturierten Oberflächenreliefs wird beschrieben, bei dem man auf ein Substrat eine Beschichtungszusammensetzung aufträgt, die thixotrop ist oder die auf dem Substrat durch Vorbehandlung thixotrope Eigenschaften erlangt, mit einer Prägevorrichtung das Oberflächenrelief in die aufgetragene thixotrope Beschichtungszusammensetzung prägt und die Beschichtungszusammensetzung nach Entfernen der Prägevorrichtung härtet. DOLLAR A Die nach diesem Verfahren erhältlichen, mit einem mikrostrukturierten Oberflächenrelief versehenen Substrate eignen sich insbesondere für optische, elektronische, mikromechanische und/oder schmutzabweisende Anwendungen.
[EN] The invention relates to a method for producing a microstructured surface relief by applying a coating composition to a substrate. Said coating composition is thixotropic or acquires thixotropic properties on the substrate when pretreated. According to the invention, an embossing device is used to emboss the surface relief into the applied thixotropic coating composition, and the coating composition hardens after removing the embossing device. The substrates which are obtained by using this method and which are provided with a microstructured surface relief are particularly suited for optical, electronic, micromechanical and/or antisoiling applications.
56 Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate,
in Recherche ermittelt
CT
56 Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate,
vom Anmelder genannt
CT
56 Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate,
in Recherche ermittelt
CTNP
56 Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate,
vom Anmelder genannt
CTNP
Zitierende Dokumente Dokumente ermitteln
Sequenzprotokoll
Prüfstoff-IPC ICP B05D 3/12
B05D 5/00
C08J 7/18
C08L 101/04
C08L 83/04