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Title |
TI |
[DE] Verfahren zur Herstellung von rotationssymmetrischen Kieselglashohlkörpern |
| 71/73 |
Applicant/owner |
PA |
VEB Werk für Technisches Glas Ilmenau, 98693 Ilmenau, DE
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| 72 |
Inventor |
IN |
Geyer, Heinz, 98693 Ilmenau, DE
;
Kathe, Editha, 98693 Ilmenau, DE
;
Kreuzberger, Thomas, 98693 Ilmenau, DE
;
Schwieger, Barbara, 98693 Ilmenau, DE
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| 22/96 |
Application date |
AD |
Dec 27, 1989 |
| 21 |
Application number |
AN |
33630589 |
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Country of application |
AC |
DD |
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Publication date |
PUB |
Sep 17, 1992 |
33 31 32 |
Priority data |
PRC PRN PRD |
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| 51 |
IPC main class |
ICM |
C03B 20/00
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| 51 |
IPC secondary class |
ICS |
C03B 32/00
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IPC additional class |
ICA |
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IPC index class |
ICI |
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Cooperative patent classification |
CPC |
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MCD main class |
MCM |
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MCD secondary class |
MCS |
C03B
(2006.01)
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MCD additional class |
MCA |
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Abstract |
AB |
[DE] Die Erfindung beinhaltet ein Verfahren zur Herstellung von rotationssymmetrischen Kieselglashohlkörpern als Ausgangsprodukt für die Herstellung von Kieselglasrohren für Licht- und Strahlungsquellen. Erfindungsgemäß wird schmelzfähiger, granulatförmiger Kieselglasrohstoff in einer Gasphasenbehandlung thermisch-chemisch gereinigt und danach zur Vermeidung der Wiederbelegung der Granulatoberfläche mit Atmosphärilien luftdicht in einem Inertgasstrom direkt in das Schmelzaggregat gefördert oder in Behältern aus Kieselglas luftdicht unter Überdruck eines Inertgases aufbewahrt und danach unter Inertgas mit Unterdruck im Schmelzaggregat eingeschmolzen. Ein so hergestellter Kieselglashohlkörper weist einen manometrisch gemessenen Gasgehalt von < 1 My l/g Kieselglas auf. |
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Cited documents identified in the search |
CT |
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Cited documents indicated by the applicant |
CT |
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Cited non-patent literature identified in the search |
CTNP |
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Cited non-patent literature indicated by the applicant |
CTNP |
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Citing documents |
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Determine documents
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Sequence listings |
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Search file IPC |
ICP |
C03B 20/00
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