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Titel |
TI |
[DE] Verfahren zur Herstellung von rotationssymmetrischen Kieselglashohlkörpern |
| 71/73 |
Anmelder/Inhaber |
PA |
VEB Werk für Technisches Glas Ilmenau, 98693 Ilmenau, DE
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Erfinder |
IN |
Geyer, Heinz, 98693 Ilmenau, DE
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Kathe, Editha, 98693 Ilmenau, DE
;
Kreuzberger, Thomas, 98693 Ilmenau, DE
;
Schwieger, Barbara, 98693 Ilmenau, DE
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| 22/96 |
Anmeldedatum |
AD |
27.12.1989 |
| 21 |
Anmeldenummer |
AN |
33630589 |
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Anmeldeland |
AC |
DD |
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Veröffentlichungsdatum |
PUB |
17.09.1992 |
33
31
32 |
Priorität |
PRC
PRN
PRD |
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IPC-Hauptklasse |
ICM |
C03B 20/00
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| 51 |
IPC-Nebenklasse |
ICS |
C03B 32/00
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IPC-Zusatzklasse |
ICA |
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IPC-Indexklasse |
ICI |
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Gemeinsame Patentklassifikation |
CPC |
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MCD-Hauptklasse |
MCM |
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MCD-Nebenklasse |
MCS |
C03B
(2006.01)
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MCD-Zusatzklasse |
MCA |
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Zusammenfassung |
AB |
[DE] Die Erfindung beinhaltet ein Verfahren zur Herstellung von rotationssymmetrischen Kieselglashohlkörpern als Ausgangsprodukt für die Herstellung von Kieselglasrohren für Licht- und Strahlungsquellen. Erfindungsgemäß wird schmelzfähiger, granulatförmiger Kieselglasrohstoff in einer Gasphasenbehandlung thermisch-chemisch gereinigt und danach zur Vermeidung der Wiederbelegung der Granulatoberfläche mit Atmosphärilien luftdicht in einem Inertgasstrom direkt in das Schmelzaggregat gefördert oder in Behältern aus Kieselglas luftdicht unter Überdruck eines Inertgases aufbewahrt und danach unter Inertgas mit Unterdruck im Schmelzaggregat eingeschmolzen. Ein so hergestellter Kieselglashohlkörper weist einen manometrisch gemessenen Gasgehalt von < 1 My l/g Kieselglas auf. |
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Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate,
in Recherche ermittelt |
CT |
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Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate,
vom Anmelder genannt |
CT |
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Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate,
in Recherche ermittelt |
CTNP |
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Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate,
vom Anmelder genannt |
CTNP |
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Zitierende Dokumente |
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Dokumente ermitteln
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Sequenzprotokoll |
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Prüfstoff-IPC |
ICP |
C03B 20/00
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