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Bibliographic data Document DE102007016360A1 (Pages: 5)
INID	Criterion	Field	Contents
54	Title	TI	[DE] Verfahren zum Erzeugen von kratzfesten Schichten auf einem Substrat [EN] Production of scratch-resistant coatings on substrates comprises applying alternating layers of silica and metal oxide using plasma-enhanced chemical vapor deposition
71/73	Applicant/owner	PA	Leibniz-Institut f�r Neue Materialien gemeinn�tzige GmbH, 66123 Saarbr�cken, DE
72	Inventor	IN	Donia, Nicole, 66578 Schiffweiler, DE ; Mathur, Sanjay, 66125 Saarbr�cken, DE ; Rajesh, Ganesan, 66123 Saarbr�cken, DE ; R�gamer, Thomas, 66123 Saarbr�cken, DE
22/96	Application date	AD	Apr 3, 2007
21	Application number	AN	102007016360
	Country of application	AC	DE
	Publication date	PUB	Oct 9, 2008
33 31 32	Priority data	PRC PRN PRD
51	IPC main class	ICM	C23C 16/40 (2006.01)
51	IPC secondary class	ICS
	IPC additional class	ICA
	IPC index class	ICI
	Cooperative patent classification	CPC	B82Y 30/00 C03C 17/3417 C03C 2217/734 C03C 2218/153 C23C 16/40 C23C 16/401
	MCD main class	MCM	C23C 16/40 (2006.01)
	MCD secondary class	MCS
	MCD additional class	MCA
57	Abstract	AB	[DE] Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Erzeugen in neues Verfahren zum Erzeugen von kratzfesten Schichten auf einem Substrat zu schaffen, wird im Rahmen der Erfindung vorgeschlagen, da� mittels PECVD Kompositstrukturen aus siliziumoxidischen Schichten und anderen metalloxidischen Schichten auf das Substrat aufgetragen werden. Gegenstand der Erfindung ist somit das Aufbringen von nanostrukturierten metalloxidischen, oxycarbidischen, oxynitridischen und carbonitridischen Schichtsystemen mittels plasmagest�tzter CVD-Verfahren (PECVD, Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) zur Funktionalisierung der Substratoberfl�che, um funktionell Eigenschaften wie Abrasionsschutz, Kratzfestigkeit und zus�tzliche Funktionalit�ten etwa Antireflexeigenschaften, hydrophobe oder hydrophile Eigenschaften zu erzielen. [EN] Production of scratch-resistant coatings on substrates comprises applying alternating layers of silica and metal oxide using plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD).
56	Cited documents identified in the search	CT
56	Cited documents indicated by the applicant	CT	CA000002364441A1 DE000003917535A1 DE000010258678B4 DE000019523444A1 DE000019634795A1 EP000000590467B1 EP000000709484A1 US000006599584B2
56	Cited non-patent literature identified in the search	CTNP
56	Cited non-patent literature indicated by the applicant	CTNP	Rupertus et al., Fresenius J. Anal. Chem. (1997) 358, 85-88 1
	Citing documents		Determine documents
	Sequence listings
	Search file IPC	ICP	C23C 16/40