| 54 |
Titel |
TI |
[EN] Stencil mask for high - and ultrahigh-energy implantation |
| 71/73 |
Anmelder/Inhaber |
PA |
RUEB MICHAEL
|
| 72 |
Erfinder |
IN |
RUEB MICHAEL, AT
|
| 22/96 |
Anmeldedatum |
AD |
30.04.2002 |
| 21 |
Anmeldenummer |
AN |
13547402 |
|
Anmeldeland |
AC |
US |
|
Veröffentlichungsdatum |
PUB |
05.12.2002 |
33
31
32 |
Priorität |
PRC
PRN
PRD |
DE
10121181
20010430
|
| 51 |
IPC-Hauptklasse |
ICM |
G03F 9/00
|
| 51 |
IPC-Nebenklasse |
ICS |
|
|
IPC-Zusatzklasse |
ICA |
|
|
IPC-Indexklasse |
ICI |
|
|
Gemeinsame Patentklassifikation |
CPC |
H01L 21/266
Y10T 428/24273
Y10T 428/24322
|
|
MCD-Hauptklasse |
MCM |
|
|
MCD-Nebenklasse |
MCS |
H01L 21/266
(2006.01)
|
|
MCD-Zusatzklasse |
MCA |
|
| 57 |
Zusammenfassung |
AB |
[EN] A stencil mask for high - and ultrahigh-energy implantation of semiconductor wafers has a substrate with implantation openings through which the implantation energy can be projected onto a wafer that will be implanted. The critical dimension of the implantation openings is defined in a manner dependent on the respective implantation energy. |
| 56 |
Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate,
in Recherche ermittelt |
CT |
|
| 56 |
Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate,
vom Anmelder genannt |
CT |
|
| 56 |
Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate,
in Recherche ermittelt |
CTNP |
|
| 56 |
Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate,
vom Anmelder genannt |
CTNP |
|
|
Zitierende Dokumente |
|
Dokumente ermitteln
|
|
Sequenzprotokoll |
|
|
|
Prüfstoff-IPC |
ICP |
G03F 9/00
|
