Bibliografische Daten

Dokument US000007091115B2 (Seiten: 7)

Bibliografische Daten Dokument US000007091115B2 (Seiten: 7)
INID Kriterium Feld Inhalt
54 Titel TI [EN] Method for doping a semiconductor body
71/73 Anmelder/Inhaber PA INFINEON TECHNOLOGIES AG, DE
72 Erfinder IN RUEB MICHAEL, AT
22/96 Anmeldedatum AD 23.12.2003
21 Anmeldenummer AN 74593303
Anmeldeland AC US
Veröffentlichungsdatum PUB 15.08.2006
33
31
32
Priorität PRC
PRN
PRD
DE
10260644
20021223
51 IPC-Hauptklasse ICM H01L 21/425 (2006.01)
51 IPC-Nebenklasse ICS
IPC-Zusatzklasse ICA
IPC-Indexklasse ICI
Gemeinsame Patentklassifikation CPC H01L 21/263
H01L 21/26506
H01L 21/268
MCD-Hauptklasse MCM H01L 21/425 (2006.01)
MCD-Nebenklasse MCS H01L 21/265 (2006.01)
H01L 21/268 (2006.01)
MCD-Zusatzklasse MCA
57 Zusammenfassung AB [EN] The invention relates to a method for doping a semiconductor body ( 2 ), in which an n-type doping is introduced into the semiconductor body, which is initially p-doped, for example, by means of ion irradiation preferably with protons, which n-type doping is then cancelled by the action of a laser beam ( 8 ) in specific regions ( 9 ) so that the original p-type doping is present in said regions ( 9 ).
56 Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate,
in Recherche ermittelt
CT US000004522657A
56 Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate,
vom Anmelder genannt
CT DE000010018371A1
DE000010025567A1
56 Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate,
in Recherche ermittelt
CTNP
56 Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate,
vom Anmelder genannt
CTNP
Zitierende Dokumente Dokumente ermitteln
Sequenzprotokoll
Prüfstoff-IPC ICP H01L 21/425