54 |
Title |
TI |
[DE] Miniaturisierbare Plasmaquelle |
71/73 |
Applicant/owner |
PA |
Forschungsverbund Berlin e.V., 12489, Berlin, DE
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72 |
Inventor |
IN |
Gesche, Roland, Dr., 63500, Seligenstadt, DE
;
Kühn, Silvio, Dipl.-Ing., 16321, Bernau, DE
;
Porteanu, Horia-Eugen, Dr., 12557, Berlin, DE
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22/96 |
Application date |
AD |
Jan 29, 2010 |
21 |
Application number |
AN |
102010001395 |
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Country of application |
AC |
DE |
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Publication date |
PUB |
Aug 4, 2011 |
33 31 32 |
Priority data |
PRC PRN PRD |
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51 |
IPC main class |
ICM |
H05H 1/46
(2006.01)
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51 |
IPC secondary class |
ICS |
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IPC additional class |
ICA |
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IPC index class |
ICI |
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Cooperative patent classification |
CPC |
H05H 1/46
H05H 1/4652
H05H 2240/10
H05H 2245/60
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MCD main class |
MCM |
H05H 1/46
(2006.01)
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MCD secondary class |
MCS |
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MCD additional class |
MCA |
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57 |
Abstract |
AB |
[DE] Eine Plasmaquelle mit einem Oszillator, welcher ein aktives Element und einen mit dem aktiven Element verbundenen Resonator besitzt. Der Resonator weist einen Hohlkörper, einen Gaseinlass, einen an einem distalen Ende des Hohlkörpers um eine Längsachse des Hohlkörpers angeordneten Gasauslass und eine entlang der Längsachse des Hohlkörpers angeordnete Spule mit einer effektiven Länge von einem Viertel einer Wellenlänge bei einer Resonanzfrequenz des Resonators auf. Ein distales Ende der Spule ist relativ zum Gasauslass so angeordnet, dass sich eine Plasmastrecke zwischen dem als eine erste Plasmaelektrode fungierenden distalen Ende der Spule und dem als eine zweite Plasmaelektrode fungierenden Gasauslass des Hohlkörpers ausbilden kann. Die Spule ist an einem proximalen Ende des Hohlkörpers aus dem Inneren des Hohlkörpers durch eine elektrisch kontaktfreie Durchführung herausgeführt und ein proximales Ende der Spule kontaktiert den Hohlkörper an dessen Außenseite. Die Spule ist an einem zwischen dem proximalen Ende der Spule und der Durchführung gelegenen ersten Kontaktbereich mit einem ersten Tor des aktiven Elementes und an einem zwischen dem proximalen Ende der Spule und der Durchführung gelegenen zweiten Kontaktbereich mit einem zweiten Tor des aktiven Elementes gekoppelt. |
56 |
Cited documents identified in the search |
CT |
DE000004337119A1 EP000000996316A1 US000003663858A US000004918031A US000006304036B1 US000006649076B2 US020020125223A1 US020060285108A1 US020080078745A1 US020090260973A1
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56 |
Cited documents indicated by the applicant |
CT |
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56 |
Cited non-patent literature identified in the search |
CTNP |
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56 |
Cited non-patent literature indicated by the applicant |
CTNP |
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Citing documents |
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Determine documents
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Sequence listings |
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Search file IPC |
ICP |
H05H 1/46
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