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Titel |
TI |
[DE] Projektionsobjetiv |
| 71/73 |
Anmelder/Inhaber |
PA |
Carl Zeiss SMT GmbH, 73447 Oberkochen, DE
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| 72 |
Erfinder |
IN |
Walser, Reinhold, 89077 Ulm, DE
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| 22/96 |
Anmeldedatum |
AD |
26.11.2009 |
| 21 |
Anmeldenummer |
AN |
102009047179 |
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Anmeldeland |
AC |
DE |
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Veröffentlichungsdatum |
PUB |
09.06.2011 |
33
31
32 |
Priorität |
PRC
PRN
PRD |
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| 51 |
IPC-Hauptklasse |
ICM |
G02B 17/06
(2006.01)
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| 51 |
IPC-Nebenklasse |
ICS |
G02B 13/14
(2006.01)
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IPC-Zusatzklasse |
ICA |
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IPC-Indexklasse |
ICI |
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Gemeinsame Patentklassifikation |
CPC |
G02B 17/0647
G03F 7/70233
G03F 7/70308
G03F 7/70316
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MCD-Hauptklasse |
MCM |
G02B 17/06
(2006.01)
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MCD-Nebenklasse |
MCS |
G02B 13/14
(2006.01)
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MCD-Zusatzklasse |
MCA |
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Zusammenfassung |
AB |
[DE] Um die Gesamttransmission eines Projektionsobjektivs insbesondere für die EUV-Lithographie zu erhöhen, wird ein Projektionsobjektiv (7) zur Abbildung eines in einer Objektebene (5) angeordneten Musters in eine Bildebene (9) mit Hilfe von elektromagnetischer Strahlung (3) aus dem extremen Ultraviolettbereich (EUV), wobei zwischen der Objektebene (5) und der Bildebene (9) mehrere mit Reflexbeschichtungen versehene, abbildende Spiegel (M1–M8) angeordnet sind und wobei mindestens einer der Spiegel (M1–M8) eine gradierte Reflexbeschichtung aufweist, vorgeschlagen, bei dem die gradierte Reflexbeschichtung einen elliptischen, parabolischen oder hyperbolischen Schichtdickenverlauf aufweist. |
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Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate,
in Recherche ermittelt |
CT |
EP000001282011A2
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| 56 |
Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate,
vom Anmelder genannt |
CT |
US000006927901B2
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| 56 |
Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate,
in Recherche ermittelt |
CTNP |
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| 56 |
Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate,
vom Anmelder genannt |
CTNP |
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Zitierende Dokumente |
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Dokumente ermitteln
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Sequenzprotokoll |
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Prüfstoff-IPC |
ICP |
G02B 17/06
G03B 27/54
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