Hauptinhalt

Bibliografische Daten

Dokument DE102006047489A1 (Seiten: 7)

Bibliografische Daten Dokument DE102006047489A1 (Seiten: 7)
INID Kriterium Feld Inhalt
54 Titel TI [DE] Randabschluss für ein Halbleiterbauelement, Halbleiterbauelement und Verfahren zu seiner Herstellung
[EN] Edge termination for semiconductor component, has semiconductor body which has edge with peripheral area of former type of conductivity, and latter type of conductivity is provided into peripheral area of charging compensation ranges
71/73 Anmelder/Inhaber PA Infineon Technologies Austria AG, Villach, AT
72 Erfinder IN Rüb, Michael, Dr.rer.nat., Faak, AT ; Schmitt, Markus, Dr.rer.nat., 85630 Grasbrunn, DE ; Tolksdorf, Carolin, Dr.-Ing., 82327 Tutzing, DE ; Willmeroth, Armin, Dipl.-Ing., 86163 Augsburg, DE
22/96 Anmeldedatum AD 05.10.2006
21 Anmeldenummer AN 102006047489
Anmeldeland AC DE
Veröffentlichungsdatum PUB 10.04.2008
33
31
32
Priorität PRC
PRN
PRD


51 IPC-Hauptklasse ICM H01L 29/06 (2006.01)
51 IPC-Nebenklasse ICS H01L 29/78 (2006.01)
IPC-Zusatzklasse ICA
IPC-Indexklasse ICI
Gemeinsame Patentklassifikation CPC H01L 29/0634
H01L 29/0696
H01L 29/1095
H01L 29/402
H01L 29/7811
MCD-Hauptklasse MCM H01L 29/06 (2006.01)
MCD-Nebenklasse MCS H01L 29/78 (2006.01)
MCD-Zusatzklasse MCA
57 Zusammenfassung AB [DE] Ein Halbleiterbauelement soll eine möglichst gute Kompensation der Ladungsträger im Randbereich gewährleisten und mit hoher Ausbeute zu fertigen sein. Dazu weist der Randabschluss für ein Halbleiterbauelement mit einem Halbleiterkörper einen Rand mit einem Randgebiet eines ersten Leitfähigkeitstyps auf, wobei in das Randgebiet Ladungskompensationsbereiche eines zweiten Leitfähigkeitstyps eingebettet sind. Die Ladungskompensationsbereiche erstrecken sich von einer Oberseite des Halbleiterbauelements vertikal in den Halbleiterkörper hinein. Für die Anzahl Ns der in einem Volumen Vs zwischen zwei in einer Richtung senkrecht zum Rand benachbarten Ladungskompensationsbereichen vorhandenen Ladungsträger und für die Anzahl Np der in einem Volumen Vp zwischen zwei in einer Richtung parallel zum Rand benachbarten Ladungskompensationsbereichen vorhandenen Ladungsträger gilt Np > Ns.
[EN] The edge termination has a semiconductor body which has an edge with a peripheral area (2) of a former type of conductivity, and a latter type of conductivity is provided into the peripheral area of charging compensation ranges. The number of the charge carrier existing in a volume between two charging compensation areas adjacent to the edge in a vertical direction is greater than the number of the charge carrier existing in a volume between two charging compensation areas adjacent to the edge in a parallel direction. An independent claim is also included for a method of manufacturing a semiconductor element.
56 Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate,
in Recherche ermittelt
CT DE000010100802C1
DE000010303335A1
DE000019828191C1
US000006844592B2
WO001999053550A1
56 Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate,
vom Anmelder genannt
CT
56 Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate,
in Recherche ermittelt
CTNP
56 Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate,
vom Anmelder genannt
CTNP
Zitierende Dokumente Dokumente ermitteln
Sequenzprotokoll
Prüfstoff-IPC ICP H01L 21/425
H01L 29/06 E
H01L 29/78