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Title |
TI |
[DE] Vorrichtung und Verfahren zur Messung der Oberflächentopographie und Wellenaberrationen eines Linsensystems, insbesondere eines Auges |
| 71/73 |
Applicant/owner |
PA |
Optocraft GmbH, 91052 Erlangen, DE
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| 72 |
Inventor |
IN |
Beyerlein, Mathias, Dr., 91052 Erlangen, DE
;
Pfund, Johannes, Dr., 90425 Nürnberg, DE
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| 22/96 |
Application date |
AD |
Sep 12, 2003 |
| 21 |
Application number |
AN |
10342175 |
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Country of application |
AC |
DE |
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Publication date |
PUB |
Apr 14, 2005 |
33
31
32 |
Priority data |
PRC
PRN
PRD |
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| 51 |
IPC main class |
ICM |
G01B 11/30
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| 51 |
IPC secondary class |
ICS |
A61B 3/107
G01B 9/02
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IPC additional class |
ICA |
A61F 9/01
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IPC index class |
ICI |
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Cooperative patent classification |
CPC |
A61B 3/103
A61B 3/107
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MCD main class |
MCM |
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MCD secondary class |
MCS |
A61B 3/103
(2006.01)
A61B 3/107
(2006.01)
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MCD additional class |
MCA |
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| 57 |
Abstract |
AB |
[DE] Es werden eine Vorrichtung (1) und ein Verfahren zur Messung der Oberflächentopographie und Wellenaberration eines Linsensystems (2) angegeben. Die Vorrichtung (1) ist mit einem ersten Messsystem (8), das eine Lichtquelle (10) zur Ausstrahlung eines ersten Lichtbündels (11) einer ersten Wellenlänge (lambda1) sowie einen Detektor (20, 48) zur Aufnahme des an dem Linsensystem (2) reflektierten ersten Lichtbündels (11') umfasst, sowie mit einem zweiten Messsystem (9), das eine Lichtquelle (21) zur Ausstrahlung eines zweiten Lichtbündels (22) einer zweiten Wellenlänge (lambda2) sowie einen Detektor (24, 48) zur Aufnahme des durch das Linsensystem (2) transmittierten zweiten Lichtbündels (22') umfasst, ausgerüstet. Dabei ist in einem gemeinsamen Strahlengangbereich (14) des ersten Messsystems (8) und des zweiten Messsystems (9) ein diffraktives optisches Element (18) angeordnet, welches den jeweiligen Wellenfrontverlauf (34) des ersten Lichtbündels (11, 11') und des zweiten Lichtbündels (22, 22') wellenlängenselektiv anpasst.
[EN] A device and a method are used for measuring the surface topography and a wave aberration of a lens system. The device is fitted with a first measuring system containing a light source radiating a first light beam of a first wavelength, and a detector which captures the first light beam which is reflected on the lens system. In addition the device has a second measuring system containing a light source for radiating a second light beam of a second wavelength and a detector for capturing the second light beam transmitted by the lens system. A diffractive optical element is disposed in a common beam path of the first measuring system and second measuring system. The optical element adapts the respective wave-front course of the first light beam and the second light beam in a wavelength-selective manner. |
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Cited documents identified in the search |
CT |
US020010016695A1
US020020163623A1
US020030038921A1
US020030169403A1
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| 56 |
Cited documents indicated by the applicant |
CT |
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| 56 |
Cited non-patent literature identified in the search |
CTNP |
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| 56 |
Cited non-patent literature indicated by the applicant |
CTNP |
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Citing documents |
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Determine documents
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Sequence listings |
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Search file IPC |
ICP |
A61B 3/107
A61F 9/01
G01B 11/30
G01B 9/02
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