Bibliografische Daten

Dokument DE000010239580B4 (Seiten: 18)

Bibliografische Daten Dokument DE000010239580B4 (Seiten: 18)
INID Kriterium Feld Inhalt
54 Titel TI [DE] Verfahren zum Ausbilden eines Kompensationsgebiets und Verwendung des Verfahrens zur Herstellung eines Kompensationshalbleiterbauelements
71/73 Anmelder/Inhaber PA Infineon Technologies AG, 81669 München, DE
72 Erfinder IN Rüb, Michael, Dr., Faak am See, AT
22/96 Anmeldedatum AD 28.08.2002
21 Anmeldenummer AN 10239580
Anmeldeland AC DE
Veröffentlichungsdatum PUB 26.01.2006
33
31
32
Priorität PRC
PRN
PRD


51 IPC-Hauptklasse ICM H01L 21/336
51 IPC-Nebenklasse ICS H01L 21/328
H01L 29/06
IPC-Zusatzklasse ICA
IPC-Indexklasse ICI
Gemeinsame Patentklassifikation CPC H01L 29/0634
H01L 29/41766
H01L 29/66136
H01L 29/66295
H01L 29/66333
H01L 29/66363
H01L 29/66712
H01L 29/7802
MCD-Hauptklasse MCM
MCD-Nebenklasse MCS H01L 21/328 (2006.01)
H01L 21/329 (2006.01)
H01L 21/331 (2006.01)
H01L 21/332 (2006.01)
H01L 21/336 (2006.01)
H01L 29/06 (2006.01)
H01L 29/78 (2006.01)
MCD-Zusatzklasse MCA
57 Zusammenfassung AB
56 Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate,
in Recherche ermittelt
CT DE000010008570A1
56 Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate,
vom Anmelder genannt
CT
56 Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate,
in Recherche ermittelt
CTNP
56 Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate,
vom Anmelder genannt
CTNP
Zitierende Dokumente Dokumente ermitteln
Sequenzprotokoll
Prüfstoff-IPC ICP H01L 21/336
H01L 29/06 E