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Titel |
TI |
[DE] Maskenanordnung für einen Abbildungsprozess, Verfahren zu deren Herstellung sowie Verfahren zum optischen Abbilden bzw. zum Herstellen eines Kompensationsbauelements |
| 71/73 |
Anmelder/Inhaber |
PA |
Infineon Technologies AG, 81669 München, DE
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| 72 |
Erfinder |
IN |
Rüb, Michael, Dr., Faak am See, AT
;
Umbach, Frank, 82054 Sauerlach, DE
;
Werner, Wolfgang, Dr., 81545 München, DE
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| 22/96 |
Anmeldedatum |
AD |
05.09.2001 |
| 21 |
Anmeldenummer |
AN |
10143515 |
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Anmeldeland |
AC |
DE |
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Veröffentlichungsdatum |
PUB |
07.09.2006 |
33
31
32 |
Priorität |
PRC
PRN
PRD |
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| 51 |
IPC-Hauptklasse |
ICM |
G03F 1/16
(2006.01)
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| 51 |
IPC-Nebenklasse |
ICS |
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IPC-Zusatzklasse |
ICA |
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IPC-Indexklasse |
ICI |
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Gemeinsame Patentklassifikation |
CPC |
G03F 1/20
H01L 21/266
H01L 29/0634
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MCD-Hauptklasse |
MCM |
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MCD-Nebenklasse |
MCS |
G03F 1/20
(2012.01)
H01L 21/266
(2006.01)
H01L 29/06
(2006.01)
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MCD-Zusatzklasse |
MCA |
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| 57 |
Zusammenfassung |
AB |
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| 56 |
Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate,
in Recherche ermittelt |
CT |
DE000010006523A1
DE000010121181A1
US000005756237A
US000006214498B1
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| 56 |
Entgegengehaltene Patentdokumente/Zitate,
vom Anmelder genannt |
CT |
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| 56 |
Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate,
in Recherche ermittelt |
CTNP |
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| 56 |
Entgegengehaltene Nichtpatentliteratur/Zitate,
vom Anmelder genannt |
CTNP |
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Zitierende Dokumente |
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Dokumente ermitteln
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Sequenzprotokoll |
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Prüfstoff-IPC |
ICP |
G03F 1/16
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